MgO 单晶基片

氧化镁是极好的单晶基片，广泛应用于制作铁电薄膜、磁学薄膜、光点薄膜和高温超导薄膜等。由于它在微波波段的介电常数和损耗都很小，且能得到大面积的基片（直径两英寸及更大），所以是当前产业化的重要高温超导薄膜单晶基片之一。可用于制作移动通讯设备所需的高温超导微波滤波器等器件。元晶科技采用化学机械抛光可制备出高质量原子级表面的产品，可提供最大尺寸2”x 2”x0.5mm的衬底基片。

技术参数：

生长方法	Special Arc Melting
晶体结构	Cubic
晶格常数	a=4.216Å
密度	3.58g/cm3
熔点	2852℃
纯度	99.95%
介电常数	9.8
热膨胀系数	12.8ppm/℃
晶体解理面	<100>
光学透过	>90%（200~400nm），>98%（500~1000nm）
晶体质量	无明显包裹物和微裂

产品规格：

晶向	<100>、<110>、<111>±0.5º
尺寸	dia2” x 0.5mm 25 x 25 x 0.5mm 15 x 15 x 0.5mm 10 x 10 x 0.5mm 10 x 5 x 0.5mm 5 x 5 x 0.5mm 可按照客户需求，定制特殊方向和尺寸的衬底。
抛光	单面抛光双面抛光
表面粗糙度	Surface roughness(Ra):<=5A 可提供原子力显微镜（AFM）检测报告

标准包装：

100级超净袋或单片晶盒封装。